一种干法刻蚀机台
授权
摘要
本实用新型提供一种干法刻蚀机台，包括用于对晶圆进行干法刻蚀的反应腔，反应腔中设有用于干法刻蚀的刻蚀器，刻蚀器固定在反应腔的顶板上；反应腔底部设有用于固定晶圆的可升降固定座，固定座上均布设有吸盘，固定座下方设有活塞，固定座下方还设有用于控制活塞的电动缸，活塞和电动缸底部固定在用于控制固定座高度的第一电动缸上，第一电动缸固定在反应腔的底板上；反应腔中还设有至少一根与外部真空泵连通的抽气管和至少一根用于充入惰性气体的充气管，至少一根抽气管的管口和至少一根充气管的管口与刻蚀器底端高度相同。
基本信息
专利标题 ：
一种干法刻蚀机台
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021646878.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-10
授权号 ：
CN212695120U
授权日 ：
2021-03-12
发明人 ：
王宜
申请人 ：
江苏斯米克电子科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市滨湖区高运路109号
代理机构 ：
南京常青藤知识产权代理有限公司
代理人 ：
史慧敏
优先权 ：
CN202021646878.X
主分类号 ：
H01J37/32
IPC分类号 ：
H01J37/32 H01L21/67
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/32
充气放电管
法律状态
2021-03-12 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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