一种新型的电池片干法刻蚀装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种新型的电池片干法刻蚀装置，涉及电池片干法刻蚀技术领域。本实用新型包括基底座，基底座的上侧固定有工作平台，基底座的下侧固定有底板，底板的上侧装设有上料平台，且上料平台位于基底座的左侧，底板的上侧装设有下料平台，且下料平台位于基底座的右侧。本实用新型通过在上料平台上侧放置上料电池可以向上料电池中放置大量的硅片，方便一次性为大量的硅片进行冲击刻蚀。顶部连接件和顶部平台能为工艺腔中的硅片进行固定，第一激光束和第二激光束会为硅片四周进行冲击刻蚀，使硅片能够被快速的被冲击刻蚀出理想的效果，刻蚀完成后的硅片会被输送到下料平台处，最后被取下，使用激光刻蚀，速度快，缩短工艺流程。
基本信息
专利标题 ：
一种新型的电池片干法刻蚀装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021779500.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-24
授权号 ：
CN212907765U
授权日 ：
2021-04-06
发明人 ：
范维涛赵雷苏杨杨孙晨财徐长志张鑫黄钧林
申请人 ：
意诚新能（苏州）科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市工业园区胜浦澄浦路15号5幢一楼
代理机构 ：
苏州高专知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
冷泠
优先权 ：
CN202021779500.7
主分类号 ：
H01L31/18
IPC分类号 ：
H01L31/18 H01L21/67
法律状态
2021-04-06 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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