本实用新型公开了一种半导体干法刻蚀机，包括刻蚀机壳体，所述刻蚀机壳体内固定连接有密封板，所述密封板上对称开设有导风孔，所述刻蚀机壳体的内壁上固定安装有驱动电机，所述驱动电机的输出端固定连接有输出轴，所述输出轴背离驱动电机的一端转动连接在刻蚀机壳体的内壁上，所述输出轴通过啮合机构连接有转轴，所述转轴上固定连接有扇叶。本实用新型通过驱动电机带动输出轴进行转动，从而使得蜗杆转动，然后带动蜗轮进行转动，进一步地使得转轴转动，从而使得扇叶进行工作吹风，打开控制阀，气流从回流管内吹出，使得刻蚀机壳体内部产生负压，使得刻蚀气体从导风孔内导出，加快了气体的流动性，提高了干法刻蚀的反应速度。