具有清洁机构的晶圆涂布设备
授权
摘要

本实用新型描述一种具有清洁机构的晶圆涂布设备,其包括支承晶圆的支承机构、向晶圆供给浆料的供料机构、驱动供料机构的驱动机构、以及清洁支承机构的清洁机构,支承机构包括承载晶圆的托盘、以及驱动托盘转动的转动部,供料机构具有容纳浆料的腔室、以及连通于腔室的料口,料口的长度不小于晶圆的直径,驱动机构以使料口沿着规定方向由支承机构的一侧移动到相对的另一侧的方式驱动供料机构,清洁机构具有运动部、以及连接于运动部的清洁部,运动部驱使清洁部至少部分地抵接于托盘的上表面。根据本实用新型,能够方便地对承载晶圆的托盘进行清洁。

基本信息
专利标题 :
具有清洁机构的晶圆涂布设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122663426.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-11-02
授权号 :
CN216173741U
授权日 :
2022-04-05
发明人 :
王锦山徐建煌郑新峰张恒
申请人 :
上海德沪涂膜设备有限公司
申请人地址 :
上海市嘉定区宝钱公路4500号1幢1层B区
代理机构 :
深圳舍穆专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
黄贤炬
优先权 :
CN202122663426.3
主分类号 :
B05C5/02
IPC分类号 :
B05C5/02  B05C13/02  B05C11/00  H01L21/67  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B05
一般喷射或雾化;对表面涂覆流体的一般方法
B05C
一般对表面涂布流体的装置
B05C5/00
将液体或其他流体物质喷射,灌注或让其流到工件表面的装置
B05C5/02
液体从与工件接触的或几乎接触的一个出口中出来
法律状态
2022-04-05 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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