保护装置
授权
摘要
本实用新型涉及保护装置,提供了一种设置于等离子体切割设备内的保护装置,等离子体切割设备用于切割晶圆,晶圆通过粘合层粘合于载体上形成晶圆组件,晶圆组件放置于切割设备内,所述保护装置包括:屏蔽部与支撑部,屏蔽部呈环形结构,所述屏蔽部在内环边缘处与所述晶圆的边缘相接触,并覆盖所述晶圆的边缘以及所述载体的边缘,所述屏蔽部在外环边缘处与所述支撑部相连接,当晶圆组件放置于所述等离子体切割设备内进行等离子体轰击时,屏蔽部能够保护所述载体免受等离子体轰击的伤害,从而降低生产成本并提高生产效率;同时,由于屏蔽部覆盖晶圆的边缘,还能够避免在切割过程中晶圆边缘的翘起,并使得晶圆的刻蚀切割更加精确,提高了切割精度。
基本信息
专利标题 :
保护装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122812592.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-11-16
授权号 :
CN216213255U
授权日 :
2022-04-05
发明人 :
辛笛
申请人 :
武汉新芯集成电路制造有限公司
申请人地址 :
湖北省武汉市东湖开发区高新四路18号
代理机构 :
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
田婷
优先权 :
CN202122812592.5
主分类号 :
H01J37/32
IPC分类号 :
H01J37/32 H01L21/67
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管,例如为了对其检验或加工的
H01J37/32
充气放电管
法律状态
2022-04-05 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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