本实用新型涉及吸盘技术领域，具体为一种便于覆铜箔基板吸附的吸盘。本实用新型，包括吸盘本体，所述吸盘本体的表面设有密封装置，所述密封装置包括密封垫，所述密封垫位于吸盘本体的表面，所述密封垫的表面固定连接有连接环，所述连接环的内部插设有两个插杆，所述插杆的圆弧面螺纹连接有推筒，所述推筒的内壁螺纹连接有限位架，所述限位架的表面套有调节架，所述调节架的表面安装有弹性垫，所述弹性垫位于吸盘本体的表面，两个所述调节架的表面均转动连接有两个安装架，所述安装架的横截面呈“L”形。解决了现有技术中由于吸盘和覆铜箔基板之间具有一定的缝隙，从而影响吸盘对覆铜箔基板进行吸附问题。