一种硅片表面清洁装置
授权
摘要

本实用新型公开了一种硅片表面清洁装置,包括:装置本体,装置本体的内侧中部水平安装有固定机构,固定机构的两侧分别安装有清洁机构,清洁机构包括清洁箱、限位杆和螺杆,螺杆和限位杆水平设置在装置本体的内部且端部与装置本体转动连接,清洁箱的表面开设有通孔且通过通孔分别与螺杆和限位杆连接,且与螺杆连接的通孔内部设置有内螺纹。本实用新型将硅片夹持在固定机构中,并通过驱动电机带动螺杆转动,从而同时驱动两个清洁机构进行水平移动,并且配合喷头喷出清洁液来将硅片表面打湿,清洁电机带动清洁盘转动,从而通过刷毛来对硅片表面进行清洁,从硅片两面同时清洁,清洁效率高,且清洁的效果佳。

基本信息
专利标题 :
一种硅片表面清洁装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202123097043.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-12-10
授权号 :
CN216460370U
授权日 :
2022-05-10
发明人 :
刘磊王小波郑强
申请人 :
无锡矽晶半导体科技有限公司
申请人地址 :
江苏省无锡市惠山区堰桥街道堰桥配套区(南区)西昌路20号
代理机构 :
无锡派尔特知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
杨强
优先权 :
CN202123097043.0
主分类号 :
B08B1/04
IPC分类号 :
B08B1/04  B08B1/00  B08B3/02  B08B13/00  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B08
清洁
B08B
一般清洁;一般污垢的防除
B08B1/00
利用工具,刷子或类似工具的清洁方法
B08B1/04
利用旋转动作的构件
法律状态
2022-05-10 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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