本实用新型公开了一种半导体级硅片表面预清洗装置，包括清洗槽和置于所述清洗槽内的清洗装置，所述清洗装置包括支撑槽和固定在所述支撑槽上的固定座，所述固定座上设置有能够转动的清洗台，所述清洗台内部中空，且一端开口，一端闭口，所述清洗台与所述固定座的连接处的外壁呈球面状，所述固定座上开设有供所述清洗台转动的转动孔，所述清洗台的开口端与所述支撑槽相通。本实用新型在清洗台上包覆清洗布，并配合水管，使得硅片表面的颗粒得以清除，同时清洗台的中空结构，方便了对水和颗粒的排放；此外利用清洗台能够转动的特点，在清洗时能够使得硅片的方向得以改变，使得水流形成一定的冲洗夹角，促进颗粒物的去除。