本实用新型公开了一种半导体硅片清洗釜，包括支撑架和清洗釜，所述支撑架的上端安装有清洗釜，所述清洗釜为上端开口设计，所述清洗釜上端固定有对称的两个支杆，两个所述支杆上共同固定有支撑块，所述支撑块上安装有第一电机，所述第一电机位于清洗釜内安装有第一转动轴，所述第一转动轴上安装有对称的两个第一固定杆。本实用新型通过第一电机带动第一固定杆和第一搅拌叶，对第二网筒的内侧进行扰流，通过第二电机带动第二固定杆和第二搅拌叶对第一网筒外围底部和外围进行扰流，通过进行内外扰流产生涡旋，从而对放置在第一网筒和第二网筒之间的硅片两侧均可以得到反复冲洗，保证硅片的清洗质量和效率。