一种扩散炉
授权
摘要
本实用新型提供一种扩散炉。所述扩散炉包括：扩散反应腔；气路管，所述气路管包括：气路主体管、以及与所述气路主体管连接的气路进口段和气路出口段；所述气路主体管位于所述扩散反应腔的腔内，所述气路进口段和所述气路出口段位于所述扩散反应腔的腔外；所述气路主体管的管壁开设有若干个扩散气孔；承载件，沿所述气路主体管的延伸方向设置于所述扩散反应腔的腔内，适于承载待处理衬底。所述扩散炉加工方式简单，可以提高扩散反应腔内扩散气体的均匀性，充分去除扩散炉内残留的气体污染物，还可以减少扩散反应腔降温冷却的时间，加快工艺进度。
基本信息
专利标题 ：
一种扩散炉
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123454580.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-31
授权号 ：
CN216719881U
授权日 ：
2022-06-10
发明人 ：
张景张良程尚之
申请人 ：
安徽华晟新能源科技有限公司
申请人地址 ：
安徽省宣城市开发区安徽省宣城经济技术开发区科技园
代理机构 ：
北京三聚阳光知识产权代理有限公司
代理人 ：
麻雪梅
优先权 ：
CN202123454580.6
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67 H01L31/18 C30B31/16 C30B29/06
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2022-06-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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