一种高纯度的Mo掺杂ITO靶材的制备方法
公开
摘要

本发明提供一种高纯度的Mo掺杂ITO靶材的制备方法,包括以下步骤:(1)将MoO2、SnO2、水和分散剂搅拌分散;(2)搅拌分散后,将混合溶液球磨至粒度合格;(3)将In2O3、水、分散剂和粘结剂进行乳化;(4)将乳化后的溶液加入到步骤(2)球磨后的混合液中,继续球磨至粒度合格;(5)将步骤(4)球磨合格的混合溶液进行喷雾干燥造粒;(6)将造粒后的粉体制成靶坯,再进行冷等静压、烧结。采用本发明制备方法,可以制得一种新的掺杂了高纯度MoO2的ITO靶材,该靶材可以降低靶材的电阻率,提高靶材的导电性,解决靶材的结瘤问题。

基本信息
专利标题 :
一种高纯度的Mo掺杂ITO靶材的制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114591070A
申请号 :
CN202210029514.4
公开(公告)日 :
2022-06-07
申请日 :
2022-01-11
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
张莉兰徐蒙钟小华高建成凤吾生
申请人 :
先导薄膜材料有限公司
申请人地址 :
安徽省合肥市新站区龙子湖路与通淮南路交口西北角
代理机构 :
广州三环专利商标代理有限公司
代理人 :
费雯
优先权 :
CN202210029514.4
主分类号 :
C04B35/01
IPC分类号 :
C04B35/01  C04B35/457  C04B35/622  C04B35/63  C23C14/08  C23C14/35  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C04
水泥;混凝土;人造石;陶瓷;耐火材料
C04B
石灰;氧化镁;矿渣;水泥;其组合物,例如:砂浆、混凝土或类似的建筑材料;人造石;陶瓷;耐火材料;天然石的处理
C04B35/00
以成分为特征的陶瓷成型制品;陶瓷组合物;准备制造陶瓷制品的无机化合物的加工粉末
C04B35/01
以氧化物为基料的
法律状态
2022-06-07 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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