一种大尺寸钼靶材的制备方法
公开
摘要
本发明属于先进金属材料制备研究领域，涉及一种大尺寸钼靶材的制备方法。该方法以以钼酸铵为原料，先进行氨溶和阳离子交换处理，之后蒸发结晶后氢气还原得到高纯钼粉；将得到高纯钼粉进行冷等静压和氢气烧结制备得到高纯钼板坯；将得到的高纯钼板坯采用一火一道次加工方式进行预锻造开坯，得到预锻坯料，再采用一火两道次加工方式进行多道次交叉轧制，得到轧制板坯；对得到的轧制板坯进行表面化学腐蚀，再对腐蚀后的板坯进行均匀化退火处理，最终获得大尺寸钼靶材。采用本发明制备方法所达到的目标效果是有针对性提纯，高纯靶材成品的晶粒细小，沿靶材厚度方向的晶粒均匀性良好且晶粒取向分布均匀。
基本信息
专利标题 ：
一种大尺寸钼靶材的制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114574821A
申请号 ：
CN202210114908.X
公开（公告）日 ：
2022-06-03
申请日 ：
2022-01-31
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
章林李星宇曲选辉熊宁刘国辉秦明礼陈刚张百成王广达魏子晨阙忠游杨军军
申请人 ：
北京科技大学
申请人地址 ：
北京市海淀区学院路30号
代理机构 ：
北京金智普华知识产权代理有限公司
代理人 ：
岳野
优先权 ：
CN202210114908.X
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34 B22F5/00 B22F9/22 B22F3/04 B22F3/10 B22F3/17 B22F3/18 B22F3/24 C22F1/18 C22F1/02 C23F1/26 C23G1/10
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2022-06-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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