碳化硅单晶的制备方法与碳化硅支撑系统与单晶生长炉
实质审查的生效
摘要
本申请公开了一种碳化硅单晶的制备方法与碳化硅支撑系统与单晶生长炉,所述制备方法包括:先在一级原料合成室内放置粒径不一的混合粉料;然后通过旋转一级旋转杆,将生长腔室下底板的非通孔位置与所述一级原料合成室上顶板的第一通孔和第二通孔对准,阻断所述混合粉料向所述生长腔室运动,进行粉料合成;最后通过旋转所述一级旋转杆,控制所述一级原料合成室上顶板的第一通孔或第二通孔对准所述生长腔室下底板的的第三通孔,以保证向所述生长腔室供料浓度的平稳运行,实现单晶生长。应用本发明提供的技术方案,可以有效减少碳化硅单晶生长过程中进入的含N量及后期组分不足造成的台阶宽化,避免堆垛层错的产生。
基本信息
专利标题 :
碳化硅单晶的制备方法与碳化硅支撑系统与单晶生长炉
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114438588A
申请号 :
CN202210138010.6
公开(公告)日 :
2022-05-06
申请日 :
2022-02-15
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
杨丽雯张云伟何丽娟程章勇康亚荣李天运
申请人 :
合肥世纪金光半导体有限公司
申请人地址 :
安徽省合肥市高新区创新大道106号明珠产业园1#楼1层A区
代理机构 :
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人 :
王娇娇
优先权 :
CN202210138010.6
主分类号 :
C30B23/00
IPC分类号 :
C30B23/00 C30B29/36
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长;共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层;材料的区熔精炼;具有一定结构的均匀多晶材料的制备;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理;其所用的装置
C30B23/00
冷凝气化物或材料挥发法的单晶生长
法律状态
2022-05-24 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C30B 23/00
申请日 : 20220215
申请日 : 20220215
2022-05-06 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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