碳化硅单晶生长中废料的回收处理方法
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摘要

碳化硅单晶生长中废料的回收处理方法。本发明属于第三代半导体材料碳化硅单晶生长及加工领域,具体涉及碳化硅单晶生长及加工过程碳化硅废料的回收处理方法,具体包括按顺序依次焙烧脱除碳单质、混酸处理脱除微量元素和碱氧化处理脱除硅单质三个步骤,其中脱除碳单质的方法为将碳化硅废料磨成粒径小于200微米的粉料后,装入石英舟放入管式炉内,管式炉加热到400℃‑600℃,焙烧2h‑5h,设定氧气瓶的通气速率以100kPa‑200kPa的压力值注入,冷却后取出石英舟,获得脱除碳单质的碳化硅废料,本发明方法脱除了碳化硅废料中含量较多的杂质,经以上步骤提纯后得到高纯碳化硅粉料,再把碳化硅粉料利用于碳化硅单晶的生产,以达到碳化硅废料的综合回收再利用,减少了碳化硅废料对环境的污染。

基本信息
专利标题 :
碳化硅单晶生长中废料的回收处理方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN113564712A
申请号 :
CN202110911820.6
公开(公告)日 :
2021-10-29
申请日 :
2021-08-10
授权号 :
CN113564712B
授权日 :
2022-05-24
发明人 :
黄四江普世坤刘得伟王美春惠峰沙智勇殷云川尹归杨海平王东
申请人 :
云南临沧鑫圆锗业股份有限公司;云南鑫耀半导体材料有限公司;云南中科鑫圆晶体材料有限公司
申请人地址 :
云南省临沧市临翔区忙畔街道忙畔社区喜鹊窝组168号
代理机构 :
昆明祥和知识产权代理有限公司
代理人 :
刘敏
优先权 :
CN202110911820.6
主分类号 :
C30B29/36
IPC分类号 :
C30B29/36  C30B23/00  C30B33/00  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长;共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层;材料的区熔精炼;具有一定结构的均匀多晶材料的制备;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理;其所用的装置
C30B29/00
以材料或形状为特征的单晶或具有一定结构的均匀多晶材料
C30B29/10
无机化合物或组合物
C30B29/36
碳化物
法律状态
2022-05-24 :
授权
2021-11-16 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C30B 29/36
申请日 : 20210810
2021-10-29 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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