一种碳化硅单晶的生长装置
授权
摘要
本实用新型提供了一种碳化硅单晶的生长装置,包括:长晶炉、第一坩埚、第二坩埚和旋转升降机构,所述长晶炉内部形成炉体腔室;所述第一坩埚底部分布有多个第一通孔;所述第二坩埚顶部分布有多个与第一通孔贯通的第二通孔,所述第二坩埚位于第一坩埚的下方,所述第一坩埚和第一坩埚均设置于所述炉体腔室中;所述旋转升降机构与第一坩埚和/或第二坩埚连接。本实用新型将第一坩埚底部开有多个第一通孔,第二坩埚顶部开有多个第二通孔,可以灵活控制第一通孔和第二通孔处于对齐相通状态,使第二坩埚中的富硅气相向籽晶方向输送,可以弥补第一坩埚内生长气氛中的硅碳比失衡的缺陷,解决硅碳比失衡问题,避免晶体生长过程中包裹体等缺陷的形成。
基本信息
专利标题 :
一种碳化硅单晶的生长装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020716816.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-04-30
授权号 :
CN212560515U
授权日 :
2021-02-19
发明人 :
刘星周敏刘圆圆张红岩姜岩鹏
申请人 :
山东天岳先进科技股份有限公司
申请人地址 :
山东省济南市槐荫区天岳南路99号
代理机构 :
北京君慧知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
王宽
优先权 :
CN202020716816.5
主分类号 :
C30B29/36
IPC分类号 :
C30B29/36 C30B23/00
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长;共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层;材料的区熔精炼;具有一定结构的均匀多晶材料的制备;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理;其所用的装置
C30B29/00
以材料或形状为特征的单晶或具有一定结构的均匀多晶材料
C30B29/10
无机化合物或组合物
C30B29/36
碳化物
法律状态
2021-02-19 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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