一种碳化硅单晶的生长装置及生长方法
实质审查的生效
摘要

本发明公开了一种碳化硅单晶的生长装置,包括:加热单元、保温单元和晶体生长单元,所述晶体生长单元设置于所述加热单元内部,所述晶体生长单元包括:坩埚,用于盛放碳化硅粉料并提供碳化硅单晶的生长场所;提拉杆,固定于所述坩埚顶部,所述提拉杆用于将所述坩埚拉出或放入所述加热单元。本发明提供的碳化硅单晶的生长装置,在晶体生长单元的坩埚顶部设置提拉杆,通过控制提拉杆拉出和下沉坩埚,能够在碳化硅晶体生长温度下,对保温单元进行抽真空处理,彻底让石墨保温毡中吸附的氮气分子脱附,显著降低石墨毡保温层中的氮含量,且不会造成籽晶的损伤,从而获得高纯度高质量的碳化硅单晶。

基本信息
专利标题 :
一种碳化硅单晶的生长装置及生长方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114411245A
申请号 :
CN202111648313.4
公开(公告)日 :
2022-04-29
申请日 :
2021-12-29
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
刘春俊雍庆娄艳芳王光明姚静彭同华杨建
申请人 :
北京天科合达半导体股份有限公司;江苏天科合达半导体有限公司;新疆天科合达蓝光半导体有限公司
申请人地址 :
北京市大兴区中关村科技园区大兴生物医药产业基地天荣大街9号2幢301室
代理机构 :
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人 :
张丽娜
优先权 :
CN202111648313.4
主分类号 :
C30B23/02
IPC分类号 :
C30B23/02  C30B29/36  C30B27/00  C23C14/56  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长;共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层;材料的区熔精炼;具有一定结构的均匀多晶材料的制备;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理;其所用的装置
C30B23/00
冷凝气化物或材料挥发法的单晶生长
C30B23/02
外延层生长
法律状态
2022-05-20 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C30B 23/02
申请日 : 20211229
2022-04-29 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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