碳化硅单晶的制造方法及制造装置以及碳化硅单晶锭
实质审查的生效
摘要

提供能够得到使贯通位错等缺陷减少的碳化硅单晶的碳化硅单晶的制造方法及制造装置以及碳化硅单晶锭。得到使贯通位错等缺陷减少的碳化硅单晶。本发明的碳化硅单晶的制造方法为,通过将原料气体供给至配置有籽晶基板的反应容器内,并且将前述反应容器内加热至既定温度,使碳化硅单晶在前述籽晶基板的表面成长,其特征在于,具有第1工序和第2工序,在前述第1工序中,将前述反应容器内的温度控制成第1既定温度的状态,使碳化硅单晶在前述籽晶基板的表面成长,由此进行贯通位错的湮灭、或者贯通位错的合成,在前述第2工序中,在前述第1工序后将前述反应容器内的温度维持成第1既定温度的状态,由此使前述贯通位错的末端接近籽晶基板的表面。

基本信息
专利标题 :
碳化硅单晶的制造方法及制造装置以及碳化硅单晶锭
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114351253A
申请号 :
CN202111193447.1
公开(公告)日 :
2022-04-15
申请日 :
2021-10-13
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
星乃纪博镰田功穗土田秀一神田贵裕冈本武志
申请人 :
株式会社电装
申请人地址 :
日本爱知县刈谷市
代理机构 :
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 :
张泽洲
优先权 :
CN202111193447.1
主分类号 :
C30B29/36
IPC分类号 :
C30B29/36  C30B25/10  C30B25/16  C30B25/08  C30B33/02  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长;共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层;材料的区熔精炼;具有一定结构的均匀多晶材料的制备;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理;其所用的装置
C30B29/00
以材料或形状为特征的单晶或具有一定结构的均匀多晶材料
C30B29/10
无机化合物或组合物
C30B29/36
碳化物
法律状态
2022-05-03 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C30B 29/36
申请日 : 20211013
2022-04-15 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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