一种无掩膜版的图案化薄膜及其制备方法和应用
著录事项变更
摘要

本发明公开了一种无掩膜版的图案化薄膜及其制备方法和应用。本发明采用激光直写,待镀基底位于镀膜材料的上方或待镀基底位于镀膜材料的下方,激光聚焦在镀膜材料上制备得到无掩膜版的图案化薄膜。当待镀基底为玻璃,镀膜材料为具有抑菌能力的金属材料时,图案化镀膜可以作为透明导电杀菌玻璃,应用于杀菌领域。当待镀基底为玻璃,镀膜材料为金属材料时,制备得到的图案化镀膜可以与带有微流道的PDMS片基组成恒温扩增微流控芯片,应用于分析化学、生命健康、医学研究、环境检测等众多领域的微流控检测。本发明的方法不使用掩膜版,简单实用,成本低廉,并且可以简单的做到各种尺寸和材质基底的图案化镀膜,应用范围及其广泛。

基本信息
专利标题 :
一种无掩膜版的图案化薄膜及其制备方法和应用
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114318243A
申请号 :
CN202210146592.2
公开(公告)日 :
2022-04-12
申请日 :
2022-02-17
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
刘晓燕周伟家张婷刘震刘宏
申请人 :
济南大学
申请人地址 :
山东省济南市南辛庄西路336号
代理机构 :
济南誉丰专利代理事务所(普通合伙企业)
代理人 :
尚久恒
优先权 :
CN202210146592.2
主分类号 :
C23C14/28
IPC分类号 :
C23C14/28  C23C14/04  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/28
波能法或粒子辐射法
法律状态
2022-06-07 :
著录事项变更
IPC(主分类) : C23C 14/28
变更事项 : 发明人
变更前 : 刘晓燕 周伟家 张婷 刘震 刘宏
变更后 : 刘晓燕 张婷 周伟家 刘震 刘宏
2022-04-29 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/28
申请日 : 20220217
2022-04-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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