一种多功能基础与应用研究复合型物理气相沉积系统
实质审查的生效
摘要

本发明涉及一种多功能基础与应用研究复合型物理气相沉积系统,该系统包括置于支撑平台上的反应腔体以及与反应腔体相连的真空机组和电控柜。反应腔体的顶部为平面,中心设功能转换法兰接口,该功能转换法兰接口上安装带电弧靶的多弧离子镀或带2个铜电极的热蒸发沉积;反应腔体的侧面设有平面/圆柱磁控靶、4个圆形平面磁控靶;反应腔体内设有一组不锈钢极板;反应腔体内的底部一侧设有连有电动机的传动轴;传动轴上设传动齿轮、两个定位销Ⅰ;反应腔体内的底部设大齿轮,顶部设样品架底盘;样品架底盘上均布有6个自转轴,该自转轴的顶端设样品架顶盘;每个自转轴上设一个自转齿轮。本发明经济实用,可用于制备多领域的功能性薄膜材料。

基本信息
专利标题 :
一种多功能基础与应用研究复合型物理气相沉积系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114481073A
申请号 :
CN202210157013.4
公开(公告)日 :
2022-05-13
申请日 :
2022-02-21
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
令晓明王伟奇郭月霞王瑞聂文豪
申请人 :
兰州交通大学
申请人地址 :
甘肃省兰州市安宁区安宁西路88号
代理机构 :
兰州中科华西专利代理有限公司
代理人 :
曹向东
优先权 :
CN202210157013.4
主分类号 :
C23C14/35
IPC分类号 :
C23C14/35  C23C14/32  C23C14/26  C23C14/50  C23C14/06  C23C14/16  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的,例如磁控溅射
法律状态
2022-05-31 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/35
申请日 : 20220221
2022-05-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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