一种电化学辅助刻蚀模板制备柔性多孔镍钴钼基超电容电极的方...
公开
摘要
本发明提供了一种电化学辅助刻蚀模板制备柔性多孔镍钴钼基超电容电极的方法，通过原位电化学辅助刻蚀模板制备柔性多孔的纳米片阵列，降低材料的阻抗、有效提升电极的比容量和循环寿命。产物由多元（镍、钴、钼）电池型电极材料构成，多种金属有利于提高不同成分间协同效应；模板法使水热生长的镍钴钼基纳米片电极在衬底上取向生长；电化学辅助刻蚀模板使纳米片电极呈多孔结构，该多孔结构不但有效提高了其比表面积，便于电解液的渗透、暴露尽可能的活性点外，还减小了电荷的传递阻抗、循环稳定性得到较好提升。
基本信息
专利标题 ：
一种电化学辅助刻蚀模板制备柔性多孔镍钴钼基超电容电极的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114582638A
申请号 ：
CN202210188820.2
公开（公告）日 ：
2022-06-03
申请日 ：
2022-03-01
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
马立安陈彦斌詹材炜罗大鹏黄旭魏朝晖叶晓云张磊
申请人 ：
福建工程学院
申请人地址 ：
福建省福州市闽侯县大学新区学府南路33号
代理机构 ：
福州元创专利商标代理有限公司
代理人 ：
俞舟舟
优先权 ：
CN202210188820.2
主分类号 ：
H01G11/86
IPC分类号 ：
H01G11/86 H01G11/26 H01G11/30
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01G
电容器；电解型的电容器、整流器、检波器、开关器件、光敏器件或热敏器件
H01G11/00
混合电容器，即具有不同正极和负极的电容器；双电层电容器；其制造方法或其零部件的制造方法
H01G11/84
混合电容器或双电层电容器，或其部件的制造工艺
H01G11/86
特别适用于电极
法律状态
2022-06-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
