本发明公开了一种光纤陀螺用铌酸锂光波导掩膜及其制备方法和应用，该方法包括以下步骤：在铌酸锂基片上制作二氧化硅薄膜后，然后在二氧化硅薄膜表面涂布负性光刻胶，再进行光刻，形成光刻胶图案；将形成光刻胶图案的铌酸锂基片进行紫外老化、热老化，再对热老化后的铌酸锂基片进行清洗、刻蚀，最后去除光刻胶，制得光纤陀螺用铌酸锂光波导掩膜。本发明降低了二氧化硅掩膜边缘的粗糙度，减少了波导窗口处点状缺陷的数量，在不增加额外设备的前提下，提升了二氧化硅掩膜质量，降低了质子交换铌酸锂光波导的散射损耗，其散射损耗为0.04‑0.07dB/cm，达到了降低器件插入损耗、降低残余强度调制、提升高低温稳定性的目的。