一种用等离子弧精炼硅的工艺方法
专利申请的视为撤回
摘要
本发明公开了一种利用气体等离子体作能源的生产硅的工艺方法，该方法包括：a)利用转移弧结构布置，在反应器中产生一气体等离子弧，这种结构产生等离子体所需的气体量最小；b)把二氧化硅和固体还原剂直接馈入到反应器和等离子体中；c)借助等离子体把二氧化硅和固体还原剂载到反应器的反应区中；d)从反应区中回收熔化态的硅和气体副产品。
基本信息
专利标题 ：
一种用等离子弧精炼硅的工艺方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN87104483A
申请号 ：
CN87104483.8
公开（公告）日 ：
1988-12-07
申请日 ：
1987-05-25
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
维叔·达特·道萨耶阿尔文·威廉·罗荷尔兹
申请人 ：
陶氏康宁公司
申请人地址 ：
美国密执安州
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利代理部
代理人 ：
全菁
优先权 ：
CN87104483.8
主分类号 ：
C01B33/02
IPC分类号 ：
C01B33/02 H05H1/24
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C01
无机化学
C01B
非金属元素；其化合物
C01B33/00
硅; 其化合物
C01B33/02
硅
法律状态
1993-05-26 ：
专利申请的视为撤回
1988-12-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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