利用材料沉积处理金属的方法及实现该方法的蒸发器
专利申请的视为撤回
摘要
在金属热化学处理的物理汽相沉积法中，构成处理蒸发器第一电极的靶的材料，通过由电弧放电任选促进的离子轰击而被汽化。以这种方式汽化形成的粒子沉积到处于第二电极电位的基底上，其电位不同于第一电极的电位。在这个沉积期间，该基底被加热至超过600℃的处理温度，而且最好是在800℃和1200℃之间。在蒸发器中，靶及其辅助部件通过冷却液的流动而被连续冷却，以便在达到处理温度时，靶材料保持固态，并且通过升华对在靶表面发生的汽化施加影响。结果是改善了沉积均匀度，对基底的附着力和处理时间。
基本信息
专利标题 ：
利用材料沉积处理金属的方法及实现该方法的蒸发器
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1063128A
申请号 ：
CN91112798.4
公开（公告）日 ：
1992-07-29
申请日 ：
1991-12-06
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
达蒙·艾里克德尔翁·格奥尔格雅库特·帕特里克
申请人 ：
英诺万蒂公司
申请人地址 ：
法国沙素
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利代理部
代理人 ：
乔晓东
优先权 ：
CN91112798.4
主分类号 ：
C23C14/32
IPC分类号 ：
C23C14/32
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/32
爆炸法；蒸发及随后的气化物电离法
法律状态
1997-08-20 ：
专利申请的视为撤回
1994-01-26 ：
实质审查请求的生效
1992-07-29 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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