快速等离子处理的设备和方法
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
本发明的等离子处理设备适宜用较高淀积速率使基片涂敷出具有防潮性能之薄膜。该设备包括一个易抽空的空腔，在该空腔内限定一个面向等离子体的表面的供电电极，和一个与该面向等离子体表面横向间距为Δ的护罩。在等离子处理期间，等离子体被约束在距离Δ范围内，同时基片被连续进给而通过被约束的等离子体。
基本信息
专利标题 ：
快速等离子处理的设备和方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1072734A
申请号 ：
CN92111259.9
公开（公告）日 ：
1993-06-02
申请日 ：
1992-09-26
授权号 ：
CN1036079C
授权日 ：
1997-10-08
发明人 ：
J·T·费尔斯H·查塔姆J·康特里伍德R·J·纳尔逊
申请人 ：
美国BOC氧气集团有限公司
申请人地址 ：
美国新泽西州
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
吴增勇
优先权 ：
CN92111259.9
主分类号 ：
C23C16/50
IPC分类号 ：
C23C16/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/50
借助放电的
法律状态
2002-11-20 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
2002-06-12 ：
其他有关事项
2001-10-31 ：
专利申请权、专利权的转移专利权的转移
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 美国BOC氧气集团有限公司
变更后权利人 : 真空装置总公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 美国新泽西州
变更后权利人 : 英国英格兰
登记生效日 : 20010824
变更前权利人 : 美国BOC氧气集团有限公司
变更后权利人 : 真空装置总公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 美国新泽西州
变更后权利人 : 英国英格兰
登记生效日 : 20010824
2001-10-31 ：
专利申请权、专利权的转移专利权的转移
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 真空装置总公司
变更后权利人 : 维美德总公司
登记生效日 : 20010831
变更前权利人 : 真空装置总公司
变更后权利人 : 维美德总公司
登记生效日 : 20010831
1997-10-08 ：
授权
1994-08-17 ：
实质审查请求的生效
1993-06-02 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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