极紫外光刻掩模台静电卡盘冷却器
专利权的终止
摘要
一种极紫外光刻掩模台静电卡盘冷却器，阵列式热电制冷器[4]位于静电卡盘[2]盘面底部，制冷器冷端绝缘导热板[302]与静电卡盘[2]平面盘底部接触；掩模板[1]通过静电吸附力，附着在静电卡盘[2]盘面上部。阵列式热电制冷器[4]由若干块自其中心向外划分的同心方框形热电制冷区域构成，每一制冷区域又分为若干块热电制冷器单元[3]，每个制冷器单元[3]由m行、n列的热电偶对[400]串联构成；热电偶对[400]由一块N型半导体和一块P型半导体通过导电铜板连接而成。同一制冷器单元[3]内的热电偶对[400]串联供电，电流相同，冷端温度相同。本发明在电压、材料、电阻和热端温度等条件确定的前提下，只需控制输入电流，即可控制阵列式热电制冷器单元冷端的温度和制冷量。
基本信息
专利标题 ：
极紫外光刻掩模台静电卡盘冷却器
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1971422A
申请号 ：
CN200510086937.6
公开（公告）日 ：
2007-05-30
申请日 ：
2005-11-21
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
尚永红李艳秋周鹏飞
申请人 ：
中国科学院电工研究所
申请人地址 ：
100080北京市海淀区中关村北二条6号
代理机构 ：
北京科迪生专利代理有限责任公司
代理人 ：
关玲
优先权 ：
CN200510086937.6
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 F25B21/02 H01L21/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2014-01-08 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101560123333
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利号 : ZL2005100869376
申请日 : 20051121
授权公告日 : 20091216
终止日期 : 20121121
号牌文件序号 : 101560123333
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利号 : ZL2005100869376
申请日 : 20051121
授权公告日 : 20091216
终止日期 : 20121121
2009-12-16 ：
授权
2008-05-07 ：
实质审查的生效
2007-05-30 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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