一种同时控制孔径不同开口的孔径差的方法。此孔径不同开口的工艺是先于目标材料层上形成抗反射层及图案化的光致抗蚀剂层，此光致抗蚀剂层具有孔径不同的第一、第二开口图案。接着以光致抗蚀剂层为掩模依序蚀刻抗反射层与材料层，以于对应第一、第二开口图案的材料层中形成第一、第二开口，其中所采用的蚀刻配方使得第一开口的孔径小于第一开口图案，而形成第一孔径差；并使得第二开口的孔径小于第二开口图案，而形成第二孔径差，其与第一孔径差之间的差值称相对孔径差。本方法的特征在于：在蚀刻抗反射层时，将影响前述相对孔径差的一项蚀刻参数设定为第一数值；且在蚀刻材料层时，将此蚀刻参数设定为第二数值，此第二数值异于第一数值。