掩模坯件的制造方法
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摘要
于掩模坯件用基片上形成将成为掩模图案的薄膜的薄膜形成工序和于上述薄膜上形成抗蚀剂膜的抗蚀剂膜形成工序的掩模坯件制造方法，此方法包括：保存包含有将上述抗蚀剂膜形成于上述薄膜上的日期信息的抗蚀剂膜形成信息的工序；将上述抗蚀剂膜形成信息与上述掩模坯件相对应的工序；基于上述抗蚀剂膜形成信息，确定形成于上述掩模坯件上的抗蚀剂膜的灵敏度变化超过允许范围的掩模坯件的工序；将上述确定的掩模坯件上所形成的抗蚀剂膜剥离的工序；在剥离了上述抗蚀剂膜的上述薄膜上再次形成抗蚀剂膜的工序。
基本信息
专利标题 ：
掩模坯件的制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101027607A
申请号 ：
CN200580032601.X
公开（公告）日 ：
2007-08-29
申请日 ：
2005-11-04
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
大久保靖
申请人 ：
HOYA株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
杜日新
优先权 ：
CN200580032601.X
主分类号 ：
G03F1/14
IPC分类号 ：
G03F1/14 G03F1/08 H01L21/027
相关图片
法律状态
2010-03-24 ：
授权
2007-10-24 ：
实质审查的生效
2007-08-29 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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