特别用于制造电子微电路的成像或曝光设备
授权
摘要
成像或绝缘设备包括辐射源(1)；掩模原版(3)，它被安装在辐射源和光学成形设备之间，用于位于掩模原版下游的辐射；所述光学成形设备(4)，它包括一系列反射镜(7，8，10，11)，其中的至少两个反射镜(10，11)是包含连接至控制单元(14)的变形件(12，13)的可变形反射镜，该控制单元(14)与图像分析器(15)相关联，以确保对上述可变形反射镜的分别根据相对于图像质量调整点的差异以及根据相对于图像畸变调整点的差异的独立变形。
基本信息
专利标题 ：
特别用于制造电子微电路的成像或曝光设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101048692A
申请号 ：
CN200580036770.0
公开（公告）日 ：
2007-10-03
申请日 ：
2005-10-25
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
R·海尔
申请人 ：
萨甘安全防护公司
申请人地址 ：
法国巴黎
代理机构 ：
上海专利商标事务所有限公司
代理人 ：
钱慰民
优先权 ：
CN200580036770.0
主分类号 ：
G02B26/06
IPC分类号 ：
G02B26/06 G02B13/14 G02B26/08 G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B26/00
利用可移动的或可变形的光学元件控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的光学器件或装置，例如，开关、选通或调制
G02B26/06
控制光的相位
法律状态
2010-11-03 ：
授权
2007-11-28 ：
实质审查的生效
2007-10-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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