母盘基片及母盘制作方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明涉及一种用于创建高密度浮雕结构的母盘基片(10)，尤其是制作用于光盘的大规模制造的压模的母盘基片(10)，或者是创建用于微接触印刷的印模的母盘基片，其中提供了有机染料层(12)用于创建该高密度浮雕结构。本发明还涉及一种用于在包含有机染料层(12)的母盘基片(10)上提供高密度浮雕结构的方法，所述方法包含下列步骤：在母盘基片(10)的要形成凹坑(32)的区域(30)上应用染料漂白激光脉冲；以及通过刻蚀过程除去有机染料层(12)中的已漂白区域(30)。本发明还涉及一种用于在母盘基片(10)上提供高密度浮雕结构的方法，所述方法包含下列步骤：提供母盘基片(10)，所述母盘基片(10)至少包含聚碳酸酯层(14)，而所述聚碳酸酯层(14)承载有机染料层(12)；通过应用激光脉冲，在所述染料/聚碳酸酯的交界面(16)处形成凸起(20)；以及通过刻蚀过程除去剩余染料层。
基本信息
专利标题 ：
母盘基片及母盘制作方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101099205A
申请号 ：
CN200580046167.0
公开（公告）日 ：
2008-01-02
申请日 ：
2005-12-21
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
E·R·梅因德斯H·S·P·鲍曼斯
申请人 ：
皇家飞利浦电子股份有限公司
申请人地址 ：
荷兰艾恩德霍芬
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
李静岚
优先权 ：
CN200580046167.0
主分类号 ：
G11B7/26
IPC分类号 ：
G11B7/26
IPC结构图谱
G
G部——物理
G11
信息存储
G11B
基于记录载体和换能器之间的相对运动而实现的信息存储
G11B7/00
用光学方法，例如，用光辐射的热射束记录用低功率光束重现的；为此所用的记录载体
G11B7/24
按形状、结构或物理特性或所选用的材料区分的记录载体
G11B7/26
专用于记录载体制造的工艺方法或设备
法律状态
2010-08-18 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101004078225
IPC(主分类) : G11B 7/26
专利申请号 : 2005800461670
公开日 : 20080102
号牌文件序号 : 101004078225
IPC(主分类) : G11B 7/26
专利申请号 : 2005800461670
公开日 : 20080102
2008-03-05 ：
实质审查的生效
2008-01-02 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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