对光滑表面进行微米结构光刻蚀的方法及装置
专利申请权、专利权的转移
摘要

本发明公开了一种对光滑表面进行光刻蚀的方法,采用大功率激光器作为光源,将激光束准直成平行光,经过光阑及透镜后,由分束元件产生分束光束,再会聚到材料表面,形成均匀干涉条纹光场,在光滑表面材料上进行超过材料损伤阈值的光蚀实现图像制作,其特征在于:所述光源采用紫外光输出的大功率二极管泵浦的固态激光器的三倍频或四倍频,所述光阑为可调矩形光阑,在同一位置进行单次脉冲加工,控制激光器的功率,使得在干涉条纹的光强相长处材料发生气化,在材料表面形成条纹结构。并以此制作方法实现微米级条纹高速激光光蚀系统,从而使得激光微米级光栅图像的加工进入真正意义上的工业化应用阶段,是一种微米级结构的先进制造技术。

基本信息
专利标题 :
对光滑表面进行微米结构光刻蚀的方法及装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1821883A
申请号 :
CN200610037797.8
公开(公告)日 :
2006-08-23
申请日 :
2006-01-12
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
陈林森魏国军周小红解正东浦东林吴建宏解剑锋沈雁汪振华
申请人 :
苏州大学;苏州苏大维格数码光学有限公司
申请人地址 :
215006江苏省苏州市沧浪区十梓街1号
代理机构 :
苏州创元专利商标事务所有限公司
代理人 :
陶海锋
优先权 :
CN200610037797.8
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  H01L21/027  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2019-12-13 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移IPC(主分类) : B23K 26/00
登记生效日 : 20191122
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 苏州大学
变更后权利人 : 苏州迈塔光电科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 215006 江苏省苏州市沧浪区十梓街1号
变更后权利人 : 215000 江苏省苏州市工业园区双泾街59号三号厂房
变更事项 : 共同专利权人
变更前权利人 : 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
变更后权利人 : 苏州大学 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
2019-12-13 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
IPC(主分类) : B23K 26/00
变更事项 : 专利权人
变更前 : 苏州大学
变更后 : 苏州大学
变更事项 : 地址
变更前 : 215006 江苏省苏州市沧浪区十梓街1号
变更后 : 215006 江苏省苏州市沧浪区十梓街1号
变更事项 : 共同专利权人
变更前 : 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
变更后 : 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
2010-02-03 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
变更后权利人 : 江苏省苏州市沧浪区十梓街1号 邮编 : 215006
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 苏州大学
变更后权利人 : 苏州大学
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 江苏省苏州市沧浪区十梓街1号 邮编 : 215006
变更事项 : 共同专利权人
变更前权利人 : 苏州苏大维格数码光学有限公司
变更后权利人 : 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
2009-06-03 :
授权
2006-10-18 :
实质审查的生效
2006-08-23 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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