改变光掩模图案尺寸的方法
授权
摘要
一种改变光掩模图案尺寸的方法，是先进行既有的座标转换，再对原始图案的长度及宽度进行转换，并根据所得的值校正因座标转换而发生的尺寸差异。
基本信息
专利标题 ：
改变光掩模图案尺寸的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101042538A
申请号 ：
CN200610071462.8
公开（公告）日 ：
2007-09-26
申请日 ：
2006-03-24
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
侯家信朱楚玉
申请人 ：
联华电子股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾新竹科学工业园区
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
陶凤波
优先权 ：
CN200610071462.8
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G03F7/00 G03F1/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2009-08-12 ：
授权
2007-11-21 ：
实质审查的生效
2007-09-26 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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