等离子体处理装置中的处理信息管理
授权
摘要
一种用于管理衬底处理数据的计算机执行方法。当在组合装置的等离子体处理室中处理衬底时获取衬底处理数据。该方法包括接收用于识别衬底的标识和过程中的至少一个的元数据。该方法还包括从传感器接收多个处理数据流，处理数据流中的每一个都与正被监测的工艺参数有关。根据第一方法和第二方法中的一种收集在每个处理数据流中的独立数据项。第一方法表示时间上周期性的数据收集。第二方法表示当预定事件发生时的数据收集。该方法也包括将与处理数据流相关的独立数据项存储在单个文件中。该单个文件仅存储与用于处理衬底的单个配方有关的数据。
基本信息
专利标题 ：
等离子体处理装置中的处理信息管理
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101310281A
申请号 ：
CN200680005403.9
公开（公告）日 ：
2008-11-19
申请日 ：
2006-02-16
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
查德·R·威特曼黄忠河杰奎琳·塞托约翰·詹森
申请人 ：
朗姆研究公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
北京康信知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
余刚
优先权 ：
CN200680005403.9
主分类号 ：
G06F19/00
IPC分类号 ：
G06F19/00
法律状态
2012-07-04 ：
授权
2009-01-14 ：
实质审查的生效
2008-11-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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