本发明的技术是用以散布沉积气体于一基材上。œ¨一实施例中，提供了用于一处理腔室的一气体散布器。该气体散布器包含有一本体具有一气体转向表面与一气体散布表面。该气体转向表面界定出一清洁气体通道。该气体散布表面配置于距该气体转向表面的该本体的对面，并朝向一基材支撑构件。该气体散布表面包含一凸起阶梯与至少一组通过该凸起阶梯的孔洞。该至少一组孔洞适以散布一沉积气体于一配置于该基材支撑构件的一基材的上方。