电感耦合装置、工艺腔室和半导体处理设备
授权
摘要
本发明公开了一种电感耦合装置、工艺腔室和半导体处理设备。所述电感耦合装置包括射频线圈和射频电源，所述射频电源经由匹配器与所述射频线圈的输入端电连接，所述电感耦合装置还包括直流电源，所述直流电源与所述射频线圈的输入端电连接，以使得所述射频线圈能够产生静磁场，所述静磁场用于提高等离子体密度和自由基密度。能够实现与微波源同样的等离子体密度和自由基密度。并且，电感耦合装置的结构简单，能够有效降低电感耦合装置的制作成本，提高经济效益。
基本信息
专利标题 ：
电感耦合装置、工艺腔室和半导体处理设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110729165A
申请号 ：
CN201810786124.5
公开（公告）日 ：
2020-01-24
申请日 ：
2018-07-17
授权号 ：
CN110729165B
授权日 ：
2022-05-27
发明人 ：
李兴存
申请人 ：
北京北方华创微电子装备有限公司
申请人地址 ：
北京市北京经济技术开发区文昌大道8号
代理机构 ：
北京天昊联合知识产权代理有限公司
代理人 ：
彭瑞欣
优先权 ：
CN201810786124.5
主分类号 ：
H01J37/32
IPC分类号 ：
H01J37/32 H01L21/67
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/32
充气放电管
法律状态
2022-05-27 ：
授权
2020-02-25 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01J 37/32
申请日 : 20180717
申请日 : 20180717
2020-01-24 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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