对物品进行处理尤其对半导体元件进行清洁的方法和装置
专利申请权、专利权的转移
摘要
本发明涉及用超声对物品尤其是半导体元件进行的连续的清洁，其中有待清洁的物品布置在液体中。此外本发明涉及一种用于实施按本发明的方法的装置。本发明的一个重要构思是，有待清洁的物品(2)的表面在装有流体的池(5)中得到至少一次最大振动，所述最大振动由至少一个设置在所述池(5)中的声源(8a)发出。在此按照一种实施方式将布置在所述池(5)中的声源区(8)倾斜于输送方向(4)的平面进行布置。
基本信息
专利标题 ：
对物品进行处理尤其对半导体元件进行清洁的方法和装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101176188A
申请号 ：
CN200680016398.1
公开（公告）日 ：
2008-05-07
申请日 ：
2006-03-15
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
N·伯格M·洛曼R·赫特
申请人 ：
里纳特种机械有限责任公司
申请人地址 ：
德国居滕巴赫
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
曹若
优先权 ：
CN200680016398.1
主分类号 ：
H01L21/306
IPC分类号 ：
H01L21/306 H01L21/00 B08B3/12
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/02
半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21/04
至少具有一个跃变势垒或表面势垒的器件，例如PN结、耗尽层、载体集结层
H01L21/18
器件有由周期表Ⅳ族元素或含有/不含有杂质的AⅢBⅤ族化合物构成的半导体，如掺杂材料
H01L21/30
用H01L21/20至H01L21/26各组不包含的方法或设备处理半导体材料的
H01L21/302
改变半导体材料的表面物理特性或形状的，例如腐蚀、抛光、切割
H01L21/306
化学或电处理，例如电解腐蚀
法律状态
2018-07-24 ：
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移IPC(主分类) : H01L 21/306
登记生效日 : 20180704
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : RENA有限责任公司
变更后权利人 : 睿纳科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 德国居滕巴赫
变更后权利人 : 德国居滕巴赫
登记生效日 : 20180704
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : RENA有限责任公司
变更后权利人 : 睿纳科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 德国居滕巴赫
变更后权利人 : 德国居滕巴赫
2011-10-19 ：
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101198504938
IPC(主分类) : H01L 21/306
专利号 : ZL2006800163981
变更事项 : 专利权人
变更前 : 里纳特种机械有限责任公司
变更后 : RENA有限责任公司
变更事项 : 地址
变更前 : 德国居滕巴赫
变更后 : 德国居滕巴赫
号牌文件序号 : 101198504938
IPC(主分类) : H01L 21/306
专利号 : ZL2006800163981
变更事项 : 专利权人
变更前 : 里纳特种机械有限责任公司
变更后 : RENA有限责任公司
变更事项 : 地址
变更前 : 德国居滕巴赫
变更后 : 德国居滕巴赫
2010-01-20 ：
授权
2008-07-02 ：
实质审查的生效
2008-05-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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