硅片生产中使用的石墨舟

避免重复授权放弃专利权

摘要

一种硅片生产中使用的石墨舟，包含一片以上的石墨片，其中所述的石墨片上对应放置硅片的位置镂空，镂空形状可与所述硅片的形状相似，且镂空形状大小小于所述硅片的大小。使用本实用新型，可减少真空镀膜时石墨舟对所承载的硅片的表层的摩擦和沾污，且使镀层更有利到达、沉积在硅片上。

基本信息

专利标题：

硅片生产中使用的石墨舟

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200720002832.2

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2007-01-29

授权号：

CN201012941Y

授权日：

2008-01-30

发明人：

刘卓

申请人：

刘卓

申请人地址：

100032北京市西城区西二环金融街27号投资广场A座601室

代理机构：

代理人：

优先权：

CN200720002832.2

主分类号：

C30B25/12

IPC分类号：

C30B25/12 C23C14/50 C23C16/458

IPC结构图谱

C部——化学；冶金

C30

晶体生长

C30B

单晶生长；共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层；材料的区熔精炼；具有一定结构的均匀多晶材料的制备；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理；其所用的装置

C30B25/00

反应气体化学反应法的单晶生长，例如化学气相沉积生长

C30B25/02

外延层生长

C30B25/12

衬底夹持器或基座

法律状态

2011-01-12 ：

避免重复授权放弃专利权

号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101061273858
IPC(主分类) : C30B 25/12
专利号 : ZL2007200028322
申请日 : 20070129
授权公告日 : 20080130
放弃生效日 : 20070129

2008-09-10 ：

专利申请权、专利权的转移(专利权的转移)

变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 刘卓
变更后权利人 : 尤耀明
变更事项 : 地址
变更前 : 北京市西城区西二环金融街27号投资广场A座601室,邮编 : 100032
变更后 : 江苏省无锡市无锡马山碧波支路八号,邮编 : 214092
登记生效日 : 20080801

2008-01-30 ：

授权

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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