半导体晶片自动对中机构
专利权的终止
摘要

本实用新型涉及在半导体晶片加工过程中对晶片对中并实现晶片升降的技术,即机械对中及升降机构,具体为一种半导体晶片自动对中机构,可以解决晶片对中精度的控制上难度较大等问题,它是满足半导体晶片加工对中精度要求的自动对中方式。该对中机构设有接片板、对中块、连接板、轴承座、气缸,接片板和对中块分别固定在轴承座上,轴承座与气缸通过连接板相连接。两个对中机构为一组,对中时两边对中机构同步工作。对中过程分为两步:接片和对中,该对中机构可根据所加工的晶片大小,调换对中块和接片板的尺寸。

基本信息
专利标题 :
半导体晶片自动对中机构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200720015940.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2007-11-16
授权号 :
CN201117647Y
授权日 :
2008-09-17
发明人 :
侯宪华张军
申请人 :
沈阳芯源微电子设备有限公司
申请人地址 :
110168辽宁省沈阳市浑南新区飞云路16号
代理机构 :
沈阳科苑专利商标代理有限公司
代理人 :
张志伟
优先权 :
CN200720015940.3
主分类号 :
H01L21/68
IPC分类号 :
H01L21/68  
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/68
用于定位、定向或对准的
法律状态
2016-01-06 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101640722249
IPC(主分类) : H01L 21/68
专利号 : ZL2007200159403
申请日 : 20071116
授权公告日 : 20080917
终止日期 : 20141116
2008-09-17 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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