三重气流金属有机物化学气相沉积设备反应腔体
专利权的终止
摘要
一种三重气流金属有机物化学气相沉积设备反应腔体,主要包括反应气体进气管道、压气进气管道、喷淋口、冷却腔、载片盘、反应腔、加热器,其特征在于所述反应气体A进气管道从反应腔顶端接入,其下方设有载片盘,载片盘的上部设有喷淋口与冷却腔,压气P进气管道与反应气体B的进气管道同轴包裹在反应气体A进气管道的外壁上,压气P进气管道的出口位于反应气体A出口的上方,反应气体B的出口位于缓冲腔的顶部。本实用新型的优点是采用水平层流和竖直喷淋相结合的气流流场的结构,抑制了喷淋气体反弹回流造成的局部湍流,提高了反应气体分布的均匀性、解决了颗粒附着的清洗问题,该结构简单,易于制造并具有可扩展性。
基本信息
专利标题 :
三重气流金属有机物化学气相沉积设备反应腔体
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200720073747.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2007-08-17
授权号 :
CN201099698Y
授权日 :
2008-08-13
发明人 :
甘志银刘胜罗小兵汪学方陈明祥徐天明王文涛
申请人 :
甘志银
申请人地址 :
430074湖北省武汉市珞喻路1037号华中科技大学武汉光电国家实验室F101
代理机构 :
上海市华诚律师事务所
代理人 :
李平
优先权 :
CN200720073747.5
主分类号 :
C23C16/44
IPC分类号 :
C23C16/44 C30B25/08 C30B25/14
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
法律状态
2017-09-26 :
专利权的终止
专利权有效期届满号牌文件类型代码 : 1611
号牌文件序号 : 101749621257
IPC(主分类) : C23C 16/44
专利号 : ZL2007200737475
申请日 : 20070817
授权公告日 : 20080813
终止日期 : 无
号牌文件序号 : 101749621257
IPC(主分类) : C23C 16/44
专利号 : ZL2007200737475
申请日 : 20070817
授权公告日 : 20080813
终止日期 : 无
2009-12-02 :
专利申请权、专利权的转移(专利权的转移)
变更前 : 湖北省武汉市珞喻路1037号华中科技大学武汉光电国家实验室F101,邮编 : 430074
变更后 : 广东省佛山市南海区平洲沙尾工业西区南港大街C栋一楼厂房,邮编 : 528251
登记生效日 : 20091023
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 甘志银
变更后权利人 : 广东昭信半导体装备制造有限公司
变更事项 : 地址
变更后 : 广东省佛山市南海区平洲沙尾工业西区南港大街C栋一楼厂房,邮编 : 528251
登记生效日 : 20091023
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 甘志银
变更后权利人 : 广东昭信半导体装备制造有限公司
变更事项 : 地址
2008-08-13 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载