半导体封装加工的除泡烤箱装置
专利权的终止
摘要

本实用新型一种半导体封装加工的除泡烤箱装置,是用以在半导体封装时将胶着材料的胶层气泡排除的设计。该除泡烤箱装置具有一腔体,其内部形成一容置空间并设置有一加热装置,以加热该容置空间达一预定温度及一预定加热速率。该容置空间还通过一加压控制组件连通一压力源以维持一预定压力。该腔体的容置空间中结合有一涡轮风扇,该涡轮风扇并通过一传动轴以结合一驱动马达,并经由驱动马达驱动该涡轮风扇转动,使该腔体的容置空间的气体流动,以使除泡烤箱装置中的一待加热标的物可均匀地受热。

基本信息
专利标题 :
半导体封装加工的除泡烤箱装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200820002331.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2008-01-08
授权号 :
CN201163615Y
授权日 :
2008-12-10
发明人 :
洪淑慧
申请人 :
印能科技有限公司
申请人地址 :
中国台湾新竹市东区高峰里高翠路221巷2弄10号2楼
代理机构 :
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 :
梁爱荣
优先权 :
CN200820002331.9
主分类号 :
H01L21/56
IPC分类号 :
H01L21/56  H01L21/00  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/02
半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21/04
至少具有一个跃变势垒或表面势垒的器件,例如PN结、耗尽层、载体集结层
H01L21/50
应用H01L21/06至H01L21/326中的任一小组都不包含的方法或设备组装半导体器件的
H01L21/56
封装,例如密封层、涂层
法律状态
2018-02-02 :
专利权的终止
专利权有效期届满IPC(主分类) : H01L 21/56
申请日 : 20080108
授权公告日 : 20081210
2008-12-10 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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