整合式等离子体处理机构
专利权的终止
摘要

本实用新型一种整合式等离子体处理机构,其包括:一反应腔、一载盘、以及至少一等离子体源。其中,反应腔包括一底板、一顶板、以及围绕反应腔的一周壁,周壁具有一侧窗以及一进料门,侧窗向外延伸有一侧室,侧室具有一侧壁,且反应腔具有一进气口以及一排气口。并且载盘是配置于底板之上。本实用新型的整合式等离子体处理机构可同时装配多种等离子体源供应器于其中,加上其独特具有的圆筒型反应腔,能增进工艺气体的良好流场散布,使反应腔内的等离子体分布更为均匀,进而使清洁效果更为提升。

基本信息
专利标题 :
整合式等离子体处理机构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200820175773.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2008-10-28
授权号 :
CN201285757Y
授权日 :
2009-08-05
发明人 :
林伟德罗顺远刘家齐杨宏河
申请人 :
富临科技工程股份有限公司
申请人地址 :
中国台湾台北县
代理机构 :
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 :
周国城
优先权 :
CN200820175773.3
主分类号 :
H01L21/00
IPC分类号 :
H01L21/00  B08B7/00  H01J37/32  H05H1/00  
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
法律状态
2013-12-18 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101554522249
IPC(主分类) : H01L 21/00
专利号 : ZL2008201757733
申请日 : 20081028
授权公告日 : 20090805
终止日期 : 20121028
2009-08-05 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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