基板处理装置及其控制方法
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摘要
本发明提供一种存储有进行基板处理装置的运行方法的程序用的计算机可读取的存储介质。运行方法包括下述工序：在所述真空处理单元的真空准备室和所述输送单元之间进行所述被处理基板的交换时，在打开所述闸阀之前，向所述真空准备室内导入惰性气体；在所述真空准备室的内部压力变成与大气压相同时，停止导入所述惰性气体，开始所述真空准备室的腐蚀性气体的排气，然后，通过使所述真空准备室与大气连通来向大气开放；在所述向大气开放工序后打开所述闸阀。
基本信息
专利标题 ：
基板处理装置及其控制方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101582378A
申请号 ：
CN200910145487.1
公开（公告）日 ：
2009-11-18
申请日 ：
2005-10-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
工藤智之小泽润中村博风间和典守屋刚中山博之长池宏史
申请人 ：
东京毅力科创株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京尚诚知识产权代理有限公司
代理人 ：
龙 淳
优先权 ：
CN200910145487.1
主分类号 ：
H01L21/00
IPC分类号 ：
H01L21/00 H01L21/677 G05B19/04
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
法律状态
2011-04-13 ：
授权
2010-01-13 ：
实质审查的生效
2009-11-18 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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