提供衬底处理装置，具有：收容衬底的处理室；气化器，其将液体原料气化从而生成反应气体并将其与载气一起作为处理气体送出，气化器具备气化容器、液体原料导入部、载气导入部、和加热液体原料的加热器；载气供给控制部，其控制载气的供给量；液体原料供给控制部，其控制液体原料的供给量；处理气体供给管，其将处理气体导入处理室内；处理气体温度传感器，其对从气化器被送出至处理气体供给管内的处理气体的温度进行检测，及控制部，其基于由处理气体温度传感器检测到的处理气体的温度，调节加热器的温度。由此，即便在低温条件下，也能够抑制处理装置内的处理气体的液滴化、雾化等，提高在由处理气体处理的衬底上形成的膜的品质。