鳍片型场效应晶体管装置
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摘要

本发明描述了一种鳍片型场效应晶体管装置,其包含衬底、栅极堆叠结构、间隔物以及源极和漏极区域。间隔物包含第一和第二间隔物并且第一间隔物的第一高度大于第二间隔物的第二高度。安置于栅极堆叠结构上的介电层包含接触开口,接触开口暴露源极和漏极区域、第一和第二间隔物以及栅极堆叠结构的一部分。鞘结构安置在接触开口内并且鞘结构与第一和第二间隔物以及栅极堆叠结构的暴露部分接触而不覆盖源极和漏极区域。金属连接器安置在鞘结构内并且连接到源极和漏极区域。

基本信息
专利标题 :
鳍片型场效应晶体管装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN107123677A
申请号 :
CN201611024414.3
公开(公告)日 :
2017-09-01
申请日 :
2016-11-18
授权号 :
CN107123677B
授权日 :
2022-05-31
发明人 :
张哲诚林志翰曾鸿辉
申请人 :
台湾积体电路制造股份有限公司
申请人地址 :
中国台湾新竹科学工业园区新竹市力行六路八号
代理机构 :
南京正联知识产权代理有限公司
代理人 :
顾伯兴
优先权 :
CN201611024414.3
主分类号 :
H01L29/78
IPC分类号 :
H01L29/78  H01L21/336  
法律状态
2022-05-31 :
授权
2019-03-19 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 29/78
申请日 : 20161118
2017-09-01 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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