半导体封装件的制造方法
授权
摘要

本发明提供高成品率的半导体封装件的制造方法。半导体封装件的制造方法包括如下步骤:对包含至少一种金属且具有第一面和与所述第一面对置的第二面的基材的所述第一面及位于所述第一面与所述第二面之间的侧面部进行蚀刻,且在所述第一面及所述侧面部附着与所述金属不同的其他金属;在所述基材的所述第二面配置包括外部端子的半导体装置,使得所述外部端子不与所述第二面对置;形成用于覆盖所述半导体装置的树脂绝缘层;在所述树脂绝缘层上形成第一导电层;在所述第一导电层和所述树脂绝缘层形成用于使所述半导体装置的所述外部端子露出的开口部;以及在所述基材的所述第一面和侧面部、所述第一导电层上及所述开口部内形成镀层。

基本信息
专利标题 :
半导体封装件的制造方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN107527825A
申请号 :
CN201710456829.6
公开(公告)日 :
2017-12-29
申请日 :
2017-06-16
授权号 :
CN107527825B
授权日 :
2022-04-05
发明人 :
町田纮一北野一彦
申请人 :
株式会社吉帝伟士
申请人地址 :
日本大分县
代理机构 :
北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
郭放
优先权 :
CN201710456829.6
主分类号 :
H01L21/50
IPC分类号 :
H01L21/50  H01L21/60  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/02
半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21/04
至少具有一个跃变势垒或表面势垒的器件,例如PN结、耗尽层、载体集结层
H01L21/50
应用H01L21/06至H01L21/326中的任一小组都不包含的方法或设备组装半导体器件的
法律状态
2022-04-05 :
授权
2020-09-22 :
著录事项变更
IPC(主分类) : H01L 21/50
变更事项 : 申请人
变更前 : 株式会社吉帝伟士
变更后 : 安靠科技日本公司
变更事项 : 地址
变更前 : 日本大分县
变更后 : 日本大分县
2019-04-19 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 21/50
申请日 : 20170616
2017-12-29 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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