用于修复通过注入然后与衬底分离所获得的层中的缺陷的方法
授权
摘要
本发明涉及一种用于修复组成ABO3的层(10)中的缺陷的方法，其中A由从以下各项中选择的至少一种元素构成：Li、Na、K、H、Ca、Mg、Ba、Sr、Pb、La、Bi、Y、Dy、Gd、Tb、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Ho、Zr、Sc、Ag、Tl并且B由从以下各项中选择的至少一种元素构成：Nb、Ta、Sb、Ti、Zr、Sn、Ru、Fe、V、Sc、C、Ga、Al、Si、Mn、Zr、Tl，所述层(10)是通过层转移法获得的，在所述层转移法中，离子物种被注入到组成ABO3的衬底(100)中以形成限定出所述层的弱化区，然后沿着所述弱化区分离所述衬底以获得与供体衬底的其余部分分离的层(10)，其特征在于它包括使所述层(10)暴露于包含组成元素A的离子的介质(M)以使所述离子渗透到所述被转移层中。
基本信息
专利标题 ：
用于修复通过注入然后与衬底分离所获得的层中的缺陷的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN109155358A
申请号 ：
CN201780032137.7
公开（公告）日 ：
2019-01-04
申请日 ：
2017-05-24
授权号 ：
CN109155358B
授权日 ：
2022-06-03
发明人 ：
布鲁诺·吉瑟兰
申请人 ：
索泰克公司
申请人地址 ：
法国伯尔宁
代理机构 ：
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 ：
黄纶伟
优先权 ：
CN201780032137.7
主分类号 ：
H01L41/312
IPC分类号 ：
H01L41/312 H03H3/02 H03H3/08
法律状态
2022-06-03 ：
授权
2019-01-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 41/312
申请日 : 20170524
申请日 : 20170524
2019-01-04 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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