用于识别样品的X射线荧光系统和方法
授权
摘要
提出了控制系统和方法，用于控制X射线荧光(XRF)系统检测由样品携带的至少一种材料(例如，由样品携带的至少一种标记物)的操作。控制系统包括：数据输入实用工具，用于接收包括关于所述至少一种材料/标记物的材料/标记物相关数据；以及数据处理器和分析仪实用工具。数据处理器和分析仪实用工具配置为和可操作为：用于分析输入数据并确定XRF系统的最佳几何特征，以优化所述XRF系统的操作条件，从而使到达样品的预定区域并被所述区域的体积吸收的主X射线辐射的量最大化并且使从所述区域发射的二次辐射到达XRF系统的检测器的部分最大化：并且用于生成XRF系统的实现XRF系统的几何特征的调整的操作数据。
基本信息
专利标题 ：
用于识别样品的X射线荧光系统和方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN109997031A
申请号 ：
CN201780070097.5
公开（公告）日 ：
2019-07-09
申请日 ：
2017-09-17
授权号 ：
CN109997031B
授权日 ：
2022-05-10
发明人 ：
Y·格罗夫T·吉斯列夫N·佑兰H·阿龙M·卡普林斯基
申请人 ：
索雷克核研究中心;安全事业有限公司
申请人地址 ：
以色列亚夫内
代理机构 ：
北京市中伦律师事务所
代理人 ：
杨黎峰
优先权 ：
CN201780070097.5
主分类号 ：
G01N23/223
IPC分类号 ：
G01N23/223 H01J35/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料，例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/22
通过测量材料的二次发射
G01N23/223
通过用X射线或γ射线辐照样品以及测量X射线荧光
法律状态
2022-05-10 ：
授权
2019-08-02 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 23/223
申请日 : 20170917
申请日 : 20170917
2019-07-09 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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