一种微孔过滤膜与半导体气敏膜叠层器件及其制造方法
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摘要

本发明属于气敏传感器制造技术领域,并具体公开了一种微孔过滤膜与半导体气敏膜叠层器件及其制造方法,其首先制备半导体气敏膜;接着将多孔材料分散在液相中获得分散液,然后将分散液均匀的铺在半导体气敏膜上,烘干得到微孔晶粒膜;再将填充材料铺设在微孔晶粒膜上,该填充材料的熔融温度低于多孔材料,然后加热填充材料使其熔融,熔融的填充材料在自身表面能的驱动作用下浸润到微孔晶粒膜的各微孔晶粒间的间隙中;最后待熔融的填充材料冷却固化后,去除微孔晶粒膜表面的填充材料,以暴露微孔晶粒的表面。本发明可制备微孔过滤膜连续的微孔过滤膜与半导体气敏膜叠层器件,具有制备流程简单、可批量化生产等优点。

基本信息
专利标题 :
一种微孔过滤膜与半导体气敏膜叠层器件及其制造方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN110407160A
申请号 :
CN201910629916.6
公开(公告)日 :
2019-11-05
申请日 :
2019-07-12
授权号 :
CN110407160B
授权日 :
2022-05-17
发明人 :
张顺平
申请人 :
华中科技大学;深圳华中科技大学研究院
申请人地址 :
湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号
代理机构 :
华中科技大学专利中心
代理人 :
张彩锦
优先权 :
CN201910629916.6
主分类号 :
B81C1/00
IPC分类号 :
B81C1/00  B81B7/02  G01N27/12  
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B81
微观结构技术
B81C
专门适用于制造或处理微观结构的装置或系统的方法或设备
B81C1/00
在基片内或其上制造或处理的装置或系统
法律状态
2022-05-17 :
授权
2019-11-29 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : B81C 1/00
申请日 : 20190712
2019-11-05 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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