一种晶圆研磨系统和晶圆研磨方法
授权
摘要

本发明提供一种晶圆研磨系统和晶圆研磨方法,用于解决现有的研磨设备只能进行全局平整研磨,无法实现局部研磨的问题。晶圆研磨系统包括:操作平台、表面轮廓采集装置、控制单元和至少一个机械手臂;表面轮廓采集装置对晶圆的待研磨侧进行三维轮廓数据采集;至少一个机械手臂上安装有可旋转的研磨头,至少一个机械手臂上的研磨头的移动范围覆盖待研磨侧的任意位置;控制单元接受表面轮廓采集装置所采集到的轮廓数据,并通过表面形貌分析生成待研磨侧的轮廓地图模型,并将轮廓地图模型上各研磨单元的坐标与晶圆目标轮廓中的预设坐标进行对比,计算得出相应研磨单元在各个坐标方向上的研磨量,并向机械手臂输出相应的研磨指令。

基本信息
专利标题 :
一种晶圆研磨系统和晶圆研磨方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112440203A
申请号 :
CN201910827402.1
公开(公告)日 :
2021-03-05
申请日 :
2019-09-03
授权号 :
CN112440203B
授权日 :
2022-04-05
发明人 :
郭顺华曾伟雄曾明李天慧
申请人 :
芯恩(青岛)集成电路有限公司
申请人地址 :
山东省青岛市黄岛区中德生态园团结路2877号ICIC办公楼4楼
代理机构 :
北京汉之知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
陈敏
优先权 :
CN201910827402.1
主分类号 :
B24B37/10
IPC分类号 :
B24B37/10  B24B37/34  B24B37/005  B24B1/00  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B24
磨削;抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺(用电蚀入B23H;磨料或有关喷射入B24C;电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00;磨具磨损表面的修理或调节;磨削,抛光剂或研磨剂的进给
B24B37/00
研磨机床或装置;附件
B24B37/04
适用于加工平面的
B24B37/07
以工件或研具的运动为特征
B24B37/10
用于单侧研磨
法律状态
2022-04-05 :
授权
2021-03-23 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : B24B 37/10
申请日 : 20190903
2021-03-05 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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