一种多晶硅还原炉喷嘴
授权
摘要
本实用新型公开一种多晶硅还原炉喷嘴，涉及多晶硅后处理领域。一种多晶硅还原炉喷嘴，包括：底盘和喷嘴，其特征在于所述喷嘴和底盘连接的部分设置有外螺纹，喷嘴气体入口处直径大于喷嘴气体出口处直径；采用本实用新型的喷嘴具有提高喷嘴气体出口处速度，改善还原炉内流场的优点。
基本信息
专利标题 ：
一种多晶硅还原炉喷嘴
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920511175.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-04-16
授权号 ：
CN210393745U
授权日 ：
2020-04-24
发明人 ：
阮继政付绪光郭磊陈其国
申请人 ：
江苏中能硅业科技发展有限公司
申请人地址 ：
江苏省徐州市经济技术开发区协鑫大道66号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201920511175.7
主分类号 ：
C01B33/035
IPC分类号 ：
C01B33/035
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C01
无机化学
C01B
非金属元素；其化合物
C01B33/00
硅; 其化合物
C01B33/02
硅
C01B33/021
制备
C01B33/027
使用除二氧化硅或含二氧化硅物料以外的气态或汽化的硅化合物的分解或还原
C01B33/035
在存在硅、碳或耐熔金属的热丝情况下，或在存在热硅棒情况下，用气态或汽化的硅化合物的分解或还原
法律状态
2020-04-24 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
