本实用新型公开的属于半导体技术领域，具体为一种用于集成电路硅片的电镀设备的清洗槽，包括底座、箱体、储水箱、电机、升降电机和废液收纳箱，所述底座的顶部中央位置焊接箱体，所述箱体的内腔底部中央位置焊接储水箱，所述储水箱的内腔顶部中央位置螺栓连接有水泵，所述储水箱的顶部中央位置设置有连接管，且连接管固定安装在水泵的出水口，所述连接管的顶部固定安装有喷水板，所述箱体的内腔左右侧壁中央位置均螺栓连接电机，所述电机的动力输出端固定安装有转轴，所述转轴的另一端固定安装有伸缩杆，所述伸缩杆的另一端焊接有固定板，该清洗槽能够有效的对集成电路硅片的电镀设备进行清洗，清洗效果好，效率高。